订阅三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3
时间：2024-03-10 04:04:12 栏目：学习方法
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题目内容：
三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3＋5H2O=2NO＋HNO3＋9HF。下列有关该反应的说法正确的是( )
A．NF3分子中所有原子共平面
B．NF3在反应中既做氧化剂又做还原剂
C．生成0.2mol HNO3时转移0.2mol电子
D．氧化产物与还原产物的物质的量之比为2∶1
最佳答案：
B
答案解析：
A、NF3的结构类似于NH3，为三角锥，不共面，错误；B、NF3中N元素的化合价为 3，部分升高为 5价，部分降低为 2价，既做氧化剂又做还原剂，正确；C、生成0.2mol HNO3时转移电子：0.2mol×2=0.4mol，错误；D、氧化产物为HNO3，还原产物为NO，所以氧化产物与还原产物的物质的量之比为1:2，错误。
考点核心：
配平简介：化学反应方程式严格遵守质量守恒定律，书写化学反应方程式写出反应物和生成物后，往往左右两边各原子数目不相等，不满足质量守恒定律，这就需要通过配平来解决。
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